Evaporatore/ Sputter/ e-beam MiniLab125

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DESCRIZIONE

Evaporatore/ Sputter/ e-beam MiniLab125

Gli strumenti MiniLab 125 portano il concetto modulare a livello pilota. Le ampie camere consentono set di componenti di dimensioni maggiori per il rivestimento di grandi aree e una gamma di opzioni load-lock consentono operazioni ad alta produttività. Allo stesso tempo, i sistemi sono completamente personalizzabili. 

Tecniche 

E-beam evaporazione | Evaporazione a bassa temperatura | Magnetron Sputterin| Deposizione sottovuoto di nanoparticelle | Evaporazione termica 

I sistemi MiniLab 125 sono evaporatori sottovuoto a pavimento per la deposizione di film sottili metallici, dielettrici e/o organici. Tutti i sistemi contengono una camera in acciaio inossidabile di tipo scatolare con una porta frontale per il carico/scarico. I grandi volumi della fotocamera consentono grandi sorgenti per il rivestimento su scala pilota o tecniche multiple per uno strumento di ricerca e sviluppo flessibile. Sono disponibili sistemi dotati di tutte le principali tecniche di deposizione e stage personalizzati per substrati specifici. 

I sistemi di pompaggio turbomolecolari sono standard, per espressione di base in alto vuoto superiori a 5 × 10-7 mbar. La configurazione esatta è estremamente flessibile e dipende dal budget e dalle applicazioni del cliente. 

Caratteristiche principali 

  • Design modulare 
  • Sportello anteriore scorrevole per il caricamento nel vano portaoggetti 
  • Porta posteriore per accesso di servizio 
  • Sistemi turbomolecolari o di criopompaggio 
  • Pressioni di base <5 × 10-7 mbar 
  • Deposizione di metalli, dielettrici e sostanze organiche 
  • Substrati di diametro fino a 11”. 
  • HMI/PC touchscreen per il controllo del sistema 
  • Attrezzato per una facile manutenzione 
  • Funzioni di sicurezza complete e interblocchi 
  • Compatibile con camere bianche 

Opzioni 

  • Pompaggio: pompe ad alto vuoto turbomolecolari o criogeniche, pompe rotative o a coclea 
  • Gas/pressione: controllo manuale o automatico tramite MFC e valvole a farfalla 
  • Load-lock: campione singolo e multiplo 
  • Stage: rotazione, riscaldamento, raffreddamento, spostamento Z, polarizzazione e planetario 
  • Shutter: Sorgente e sunstrato, pneumatiche o motorizzate 
  • Funzionamento: Manuale o automatico tramite pannelli frontali, HMI touchscreen o PC 
  • Processo: testine del sensore in cristallo di quarzo per il monitoraggio della frequenza/spessore o il controllo del ciclo di feedback