I sistemi nanoETCH implementano l’esclusiva tecnologia Soft Etching di Moorfield e forniscono il controllo preciso cruciale per numerose applicazioni di etching tra cui grafene, materiali 2D e molti altri, il tutto in un pacchetto compatto da banco. 

Tecniche 

Etching al plasma 

Il nanoETCH è uno strumento da banco dotato di uno stadio di etching al plasma ad alta uniformità e di un alimentatore RF per la generazione del plasma. Lo strumento è stato originariamente sviluppato in collaborazione con il gruppo di grafene presso il National Graphene Institute dell’Università di Manchester, nel Regno Unito. Questo sviluppo è stato guidato dall’esigenza all’interno della comunità di ricerca di uno strumento di etching che consentisse l’incisione di precisione di materiali 2D sensibili, non disponibile negli strumenti RIE convenzionali. 

Oggi, il nanoETCH è disponibile in due configurazioni: per Soft Etching, ideale per lavori delicati con grafene e materiali 2D, e per plasmi di chimica del fluoro per applicazioni che richiedono un approccio più aggressivo. 

Gli strumenti nanoETCH possono essere dotati di tavole per diametri massimi del substrato di 3″/75 mm, 4″/100 mm o 6″/150 mm. 

Oggi, gli strumenti nanoETCH sono installati a livello globale nei principali laboratori di ricerca sui materiali grafene/2D, tra cui l’ICFO (Spagna), il Cambridge Graphene Centre e il National Graphene Institute del Regno Unito.