Sputter/Evaporatore NanoPVD-ST15A

Il modello ST15A offre la combinazione di tecniche di evaporazione e sputtering all’interno di un’unica camera di processo. Massima flessibilità di ricerca all’interno di un pacchetto automatizzato da banco. 

Tecniche 

Evaporazione a bassa temperatura | Sputtering del magnetron | Evaporazione termica 

Tecniche di evaporazione ad alte prestazioni e magnetron sputtering all’interno di un’unica camera di processo, il tutto racchiuso in un pacchetto compatto e modulare per il posizionamento sul banco. Massima flessibilità per la deposizione di film sottili a livello di ricerca che richiede un ingombro ridotto. 

L’ultimo modello della gamma nanoPVD di Moorfield, il modello ST15A, è stato appositamente progettato per accogliere sia l’evaporazione sotto vuoto che le sorgenti di sputtering del magnetron all’interno di un’unica camera di processo. I tipi di sorgenti disponibili sono l’evaporazione a bassa temperatura (LTE), l’evaporazione resistiva standard e lo sputtering del magnetron (target da 2″) per la deposizione di sostanze organiche, dielettrici e metalli. 

Ogni camera di processo può contenere fino a 3 sorgenti di massimo 2 tipi. È disponibile una gamma completa di alimentatori che consentono la deposizione di più tipi di film – metalli, isolanti, dielettrici e sostanze organiche – utilizzando lo stesso sistema e anche all’interno dello stesso ciclo di processo. 

Come con tutti gli strumenti nanoPVD, l’accesso alla camera avviene tramite un coperchio incernierato, che si apre per rivelare un stage adatto a contenere substrati fino a 4″/100 mm di diametro. La camera è alta, consentendo un rivestimento ad alta uniformità tramite tecniche adattate. 

Le unità sono facili da controllare tramite un’interfaccia HMI touchscreen, di semplice manutenzione, hanno bassi costi di esercizio e sono dotate di una gamma completa di funzioni di sicurezza. 

Con un sistema di pompaggio turbomolecolare, pressioni di base ad alto vuoto, controllo automatizzato diretto tramite un HMI touchscreen e una gamma di opzioni per una configurazione flessibile, il nanoPVD-ST15A combina la comprovata facilità d’uso e le prestazioni di fascia alta che la gamma nanoPVD è diventata noto per la massima flessibilità delle applicazioni. 

Caratteristiche principali 

• Configurazione da banco 
• Magnetron sputtering, evaporazione termica ed evaporazione a bassa temperatura 
• Deposizione di metalli, sostanze organiche e dielettrici 
• Disposizione flessibile della sorgente 
• Fino a 3 gas di processo controllati da MFC 
• Opzione di controllo automatico della pressione 
• Funzionamento completamente automatico tramite HMI touchscreen 
• Substrati fino a 4 pollici di diametro 
• Opzione di riscaldamento del campione 
• Pressioni di base <5 × 10-7 mbar 
• Definisci/salva più ricette di processo 
• Attrezzato per una facile manutenzione 
• Funzioni di sicurezza complete 
• Compatibile con camere bianche
• Prestazioni comprovate 

Opzioni 

• Pompa per prevuoto a secco 
• Sfiato rapido della camera 
• Camera SafeSeal 
• Rotazione del substrato 
• Spostamento Z del substrato 
• Shutter della sorgente e/o del substrato 
• Riscaldamento del substrato a 500 °C 
• Co-deposizione 
• Tecnologia SputterSwitch 
• Fino a 3 MFC 
• Controllo automatico della pressione ad alta risoluzione 
• Testine sensore in cristallo di quarzo